Metal Oxides (산화물 박막 종류): PtOx, RuO2, SiO2, TiO2, Ta2O5
(1) 두께측정:
UV-visible photospectrometer, ellipsometer, 색도표
UV-visible photospectrometer ellipsomet
| 두께 측정 범위: | 1nm - 1mm (비-금속들) 0.5nm - 50nm (금속들) | 0.1nm - 0.01mm (비-금속들) 0.1nm - 50nm (금속들) |
|---|---|---|
| 굴절률 측정에 요구되는 두께: | >20nm (비금속) 5nm - 50nm (금속들) | >5nm (비금속) >0.5nm (금속) |
| 측정 속도: | 위치당 ~0.1 - 5 초 | 위치 당 ~1 - 300 초 |
| 특별 교육: | 아니요 | 대부분 응용분야에 필요함 |
| 이동 파트: | 아니요 | 움직이는 정확한 옵틱 |
| 기본 시스템 단가: | ~$13K | ~$40K |
(2) 굴절률
ellipsometer로 두께와동시에측정가능
물질의조성비에관계함: SiO2
(1.46) ∼ Si(3.75)
(3) 밀도
산화전후의웨이퍼무게와면적, 산화막두께측정
산화막의구조적결함에의하여달라짐
(4) 핀홀(pinhole)
밀도변화, 파괴전압감소
핀홀을통한확산
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